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リバスチグミンの光分解を抑制した経皮吸収型貼付製剤
专利权人:
祐徳薬品工業株式会社
发明人:
上野 洋明,森田 愛子
申请号:
JP2017034370
公开号:
JP2018140943A
申请日:
2017.02.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
To provide a percutaneously absorptive patch preparation containing rivastigmine as an active ingredient and capable of inhibiting the decomposition of rivastigmine by light exposure and improving the stability of rivastigmine without adding an antioxidant, To provide mold sticking formulation.SOLUTION: The percutaneous absorption type patch preparation comprising a support, a rivastigmine-containing pressure-sensitive adhesive layer and a release liner, wherein the support has light having a light transmittance of 0.2% or less at a wavelength of 340 to 380 nm and 440 to 520 nm A percutaneous absorption type patch preparation characterized by being a shielding treatment support.Selection drawing None【課題】有効成分としてリバスチグミンを含有する経皮吸収型貼付製剤であって、抗酸化剤を配合せずとも、光暴露によるリバスチグミンの分解を抑制し、リバスチグミンの安定性を向上させた経皮吸収型貼付製剤を提供すること。【解決手段】支持体、リバスチグミン含有粘着層および剥離ライナーからなる経皮吸収型貼付製剤であって、支持体が、波長340~380nm及び440~520nmにおける光線透過率が0.2%以下の光遮蔽処理支持体であることを特徴とする経皮吸収型貼付製剤。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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