BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung
发明人:
Martin, Dr. Dreßler
申请号：
DE102009000642
公开号：
DE102009000642B4
申请日:
2009.02.05
申请国别(地区):
DE
年份:
2012
代理人:
摘要：
Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Formteile (22),wobeiauf ein Substrat (10) eine erste, negative oder positive photosensitive Schicht (12) mit einer Schichtdicke (D1) aufgetragen wird und die erste photosensitive Schicht (12) bereichsweise mittels Licht einer geeigneten Wellenlänge belichtet wirdeine zweite, negative oder positive photosensitive Schicht (12) mit einer Schichtdicke (D2) auf die erste photosensitive Schicht (12) aufgetragen und bereichsweise mittels Licht einer geeigneten Wellenlänge belichtet wird, wobei die belichteten Bereiche (16) in der zweiten Schicht (12) gleich und/oder unterschiedlich zu den belichteten Bereichen (16) in der ersten Schicht (12) sind, wobei die erste und zweite photosensitive Schicht (12, 12) eine Suspension aus einem Negativ- oder Positiv-Photolack und darin suspendierten Feststoffpartikeln istoptional die Schritte Auftragen und bereichsweises Belichten einer photosensitiven Schicht (12, 12) so oft wiederholt werden, bis eine vorbestimmte Höhe (H) erreicht wird, wobei die belichteten Bereiche (16, 16) der zumindest zwei photosensitiven Schichten...A process for producing microstructured molded parts (22),whereinon a substrate (10) a first, negative or positive photosensitive layer (12) with a layer thickness (d1) is applied and the first photosensitive layer (12) in some regions, by means of light of a suitable wavelength is exposed to lighta second, negative or positive photosensitive layer (12 ) with a layer thickness (d2) to the first photosensitive layer (12) and in that the applied by means of light of a suitable wavelength is exposed to light, wherein the exposed areas (16) in the second layer (12 ) are identical and / or different from the exposed areas (16) in the first layer (12), the first and second photosensitive layer (12, 12) a suspension of a negative - or - a positive photoresist and solid particles suspended therein isoptionally the steps of applying and partial exposure of a photosensitive layer
