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加熱装置
专利权人:
ミクロ電子株式会社
发明人:
武藤 彰男
申请号:
JP20170058834
公开号:
JP2018161063(A)
申请日:
2017.03.24
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
【課題】加熱室内に回転する攪拌羽根を設ける以外の方法で、被処理物をムラなく加熱できるマイクロ波を用いた加熱装置を提供する。【解決手段】本発明の加熱装置10は、被処理物を収容する有底円筒状の内部空間の開口部32が斜め上方に位置するように、回転軸34bが斜め上方に傾くように配置された回転ドラム30と、開口部32から内部空間に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射部22を有し、マイクロ波照射時に開口部32を覆う蓋部20と、を備え、回転ドラム30は、内部空間を規定する内周面33と、開口部32の反対側に位置する内周面33の端部を塞ぐ底面34と、底面34の中央に位置し、底面34側から開口部32側に突出する突出部36と、内周面33の周方向に複数設けられ、内周面33から突出部36側に延在
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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