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加熱装置
- 专利权人:
- ミクロ電子株式会社
- 发明人:
- 武藤 彰男
- 申请号：
- JP20170180021
- 公开号：
- JP2018161121(A)
- 申请日:
- 2017.09.20
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】加熱室内に回転する攪拌羽根を設ける以外の方法で、被処理物をムラなく加熱できるマイクロ波を用いた加熱装置を提供する。【解決手段】本発明の加熱装置１０は、被処理物を収容する有底円筒状の内部空間の開口部３２が斜め上方に位置するように、回転軸３４ｂが斜め上方に傾くように配置された回転ドラム３０と、開口部３２から内部空間に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射部２２を有し、マイクロ波照射時に開口部３２を覆う蓋部２０と、を備え、回転ドラム３０は、内部空間を規定する内周面３３と、開口部３２の反対側に位置する内周面３３の端部を塞ぐ底面３４と、底面３４の中央に位置し、底面３４側から開口部３２側に突出する突出部３６と、内周面３３の周方向に複数設けられ、内周面３３から突出部３６側に延在
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
