The invention relates to a method for removing at least one impurity from metal-based nanoparticles, comprising at least two heating stages during which: - During stage 1, the temperature of the nanoparticles is increased to temperature T1, then maintained at T1 for a heating period of between 1 second and 20 years, where T1 is between 150 ° C and 250 ° C, - During step 2, the temperature of the nanoparticles is increased to a temperature T2, then maintained at T2 for a heating period of between 1 second and 20 years, where T2 is between 350 ° C and 450 ° C. L'invention concerne une méthode d'élimination d'au moins une impureté de nanoparticules à base de métal, comprenant au moins deux étapes de chauffage au cours desquelles: - Au cours de l'étape 1, la température des nanoparticules est augmentée à une température T1, puis maintenue à T1 pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 20 ans, où T1 est compris entre 150 °C et 250 °C, - Au cours de l'étape 2, la température des nanoparticules est augmentée à une température T2, puis maintenue à T2 pendant une durée de chauffage comprise entre 1 seconde et 20 ans, où T2 est compris entre 350 °C et 450 °C.
