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近端治疗装置及其放射源
专利权人:
和鑫生技开发股份有限公司
发明人:
郑文源
申请号:
CN201610357520.7
公开号:
CN107432992B
申请日:
2016.26.05
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
一种近端治疗装置的放射源,包括:一热阴极,被加温以产生游离电子,所述游离电子受一加速电场的作用而射向一靶元件而形成一电子束;一聚焦元件,部分围绕所述热阴极,并具有一聚焦电场,所述电子束通过所述聚焦电场而缩小其直径;一阳极管柱,被构造以进入一病变处或是一施用器的内腔中;所述靶元件,位于所述阳极管柱的末端,被所述电子束撞击而产生放射;以及一控制模组,被构造以控制所述聚焦元件的聚焦电场,从而调整所述电子束的直径大小。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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