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SYSTÈME DE NETTOYAGE DE GRAINS DANS UNE MOISSONNEUSE-BATTEUSE
专利权人:
AGCO INTERNATIONAL GMBH
发明人:
KRISTENSEN, Magnus, Baltzer,BILDE, Morten
申请号:
EPEP2016/070377
公开号:
WO2017/042050A1
申请日:
2016.08.30
申请国别(地区):
EP
年份:
2017
代理人:
摘要:
A grain cleaning system (10) in a combine harvester (1) comprises a frame (21), a chaffer sieve (14), and a lower sieve (18). A clean grain chute (24) is located under the lower sieve (18) to catch grain falling therefrom and is inclined to direct the caught grain to a clean grain trough (26). A tailings return chute (48) is disposed under the clean grain chute (24) and is configured to direct tailings to a tailings collection trough (50). A multi-configurable plate (30) is mounted to the frame (21) and positioned under a rear portion (32) of the chaffer sieve (14). The plate (30) is moveable between different operating positions. In a first operating position (A) the plate (30) is configured to guide material incident thereon to the tailings return chute (48). In a second operating position (B) the plate (30) is configured to guide material incident thereon to the clean grain chute (24).L'invention concerne un système de nettoyage de grains (10) dans une moissonneuse-batteuse (1) qui comprend un châssis (21), une grille supérieure (14) et une grille inférieure (18). Une goulotte à grains propres (24) est située sous la grille inférieure (18) pour rattraper les grains qui en tombent et est inclinée pour diriger les grains rattrapés vers une cuve à grains propres (26). Une goulotte de retour de résidus (48) est placée sous la goulotte à grains propres (24) et est conçue pour diriger les résidus vers une cuve de collecte de résidus (50). Une plaque pouvant prendre plusieurs configurations (30) est montée sur le châssis (21) et positionnée sous une partie arrière (32) de la grille supérieure (14). La plaque (30) est mobile entre différentes positions de fonctionnement. Dans une première position de fonctionnement (A), la plaque (30) est configurée pour guider le matériau qui tombe sur elle vers la goulotte de retour des résidus (48). Dans une seconde position de fonctionnement (B), la plaque (30) est configurée pour guider le matériau qui tombe sur elle vers la goulott
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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