用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备和方法以及X射线图像采集系统

• 收藏
• 分享

专利权人:

皇家飞利浦有限公司

发明人:

C·科克,G·福格特米尔,T·克勒,J·W·M·雅各布斯,S·乌尼克里希南,D·赫尔梅斯,A·M·B·范莫尔

申请号：

CN201880024793.7

公开号：

CN110621230A

申请日:

2018.10.12

申请国别(地区):

CN

年份:

2019

代理人:

摘要：

本发明涉及一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备,所述设备(10)包括:至少两个平面X射线光栅段(11‑19);至少一个对准单元(31‑39),其用于对准至少两个平面X射线光栅段之一;其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)并排布置并形成X射线光栅(20);其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)均包括用于X射线辐射的光栅表面(41‑49),每个光栅表面(41‑49)包括几何中心;其中,光栅表面(41‑49)的中每个的法线(21‑29)定义公共平面(73),其中,法线(21‑29)与光栅表面(41‑49)的几何中心相交;其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于公共平面(73)的轴(131‑139)旋转;并且其中,至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中能绕轴(131‑139)旋转的第一平面X射线光栅段连接到至少一个对准单元(31‑39)中的第一对准单元。本发明提供了提供改进的X射线光栅(20)的设备(10)和方法(100)。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/