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二重剥離層を用いる機能性ナノ粒子のナノインプリントリソグラフィ形成
专利权人:
モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
发明人:
シング,ヴィクラムジット,シュ,フランク・ワイ,スリーニヴァサン,シドルガータ・ブイ
申请号:
JP2013537882
公开号:
JP2014505018A
申请日:
2011.11.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Functional nanoparticles may be formed using a nanoimprint lithography at least one step. In one embodiment, the sacrificial material may be used to imprint lithography process, to pattern a multilayer substrate including a functional layer of one or more between each removable layer. One, including the functional materials such as imaging agent or pharmaceutical composition of at least functional layer. Pattern may be etched into the multilayer substrate. At least a portion of the functional material, then it can be removed to provide the crown surface exposed struts. By removing the removable layer was peeled from the support column structure patterned to form a functional nanoparticles as an imaging agent or a drug carrier. [Selection Figure] Figure 6A機能性ナノ粒子は、少なくとも1つのナノインプリントリソグラフィステップを用いて形成することができる。1つの実施形態では、犠牲材料は、インプリントリソグラフィプロセスを用いて、各除去可能層の間に1つ又はそれ以上の機能性層を含む多層基板上でパターン形成することができる。機能性層の少なくとも1つは、医薬組成物又はイメージング剤のような機能性材料を含む。パターンは、更に多層基板の中にエッチングすることができる。機能性材料の少なくとも一部は、その後、クラウン表面露出支柱をもたらすために除去することができる。除去可能層を除去することで、パターン化構造から支柱を剥離して、薬物又はイメージング剤担体のような機能性ナノ粒子を形成する。【選択図】 図6A
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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