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COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ANTIMICROBIENNE ET PROCÉDÉ
专利权人:
VAN-HAM; Irit Itzhaki
发明人:
VAN-HAM, Irit Itzhaki
申请号:
CACA2019/050298
公开号:
WO2019/173907A1
申请日:
2019.03.12
申请国别(地区):
CA
年份:
2019
代理人:
摘要:
An antimicrobial photosensitive composition for treating dermatological infections comprising an inula viscosa extract and a pharmaceutically acceptable vehicle. The inula viscosa extract acts as a naturally-derived antimicrobial and a photosensitizer, and is capable of treating antimicrobial infections in combination with photodynamic therapy. The present composition can be used for treating onychomycosis. Also described is a photodynamic method for treating a microbial infection comprising applying a photosensitizer composition to a site of microbial infection and exposing the site of microbial infection to light having a wavelength in the waveband of absorption of the photosensitizer.La présente invention concerne une composition photosensible antimicrobienne permettant de traiter des infections dermatologiques comprenant un extrait d'inula viscosa et un véhicule pharmaceutiquement acceptable. L'extrait d'inula viscosa agit comme un antimicrobien d'origine naturelle et un photosensibilisateur, et est capable de traiter des infections antimicrobiennes en combinaison avec une thérapie photodynamique. La composition de la présente invention peut être utilisée pour traiter l'onychomycose. La présente invention porte également sur un procédé photodynamique permettant de traiter une infection microbienne consistant à appliquer une composition de photosensibilisateur sur un site d'infection microbienne et à exposer le site d'infection microbienne à une lumière ayant une longueur d'onde dans la gamme d'ondes d'absorption du photosensibilisateur.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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