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GAS-CONTAINING SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
专利权人:
株式会社新菱;SHINRYO CORP
发明人:
TAKEDA TORU,武田 徹,TOYOSHIMA KOICHI,豊島 宏一,SAWAI TAKESHI,沢井 毅,INOUE KAZUMI,井上 和美
申请号:
JP2017003163
公开号:
JP2017192376A
申请日:
2017.01.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas-containing substrate capable of containing and holding functional gas at high concentration and a manufacturing method therefor.SOLUTION: There is provided a manufacturing method of a gas-containing substrate containing a composition containing functional gas, including following processes. Process (1): a process for supplying functional gas with holding a temperature of a raw material composition having gelling temperature where it may become solid shape from liquid shape by cooling in a range of 0.5 to 65°C at a temperature where the raw material composition becomes liquid shape and homogeneously dispersing the functional gas of the amount over saturated solubility at a liquid state of the raw material composition as fine air bubbles. Process (2): a process for transferring the obtained raw material composition of a liquid state to which the fine air bubbles of the functional gas is dispersed to a filling container and filling and sealing the same. Process (3): a process for cooling the obtained raw material composition at liquid state to which the fine air bubbles of the functional gas is dispersed in the sealed filling container to gelling temperature of the raw material composition or less to solidify the same.SELECTED DRAWING: None【課題】機能性ガスを高濃度に含有保持できるガス含有基材及びその製造方法を提供する。【解決手段】以下の工程を有する機能性ガスを含有する組成物を含むガス含有基材の製造方法。工程(1): 冷却することにより液体状から固形状となり得るゲル化温度を0.5~65℃の範囲に有する原料組成物を、当該原料組成物が液体状となる温度で保持しながら機能性ガスを供給し、原料組成物の液体状態時における飽和溶解度を超える量の機能性ガスを微細気泡として均一分散させる工程工程(2): 得られた機能性ガスの微細気泡が分散した液体状態の原料組成物を充填容器に移送して、充填及び密閉化する工程工程(3): 得られた密閉充填容器内の機能性ガスの微細気泡が分散した液体状の原料組成物を、当該原料組成物のゲル化温度以下に冷却して凝固する工程【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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