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COMPOSITION COMPRENANT DEUX ESTERS D'ACIDE GRAS DE POLYGLYCÉRYLE
专利权人:
MARUYAMA Kazuhiko;L'OREAL
发明人:
MARUYAMA Kazuhiko
申请号:
JPJP2019/047303
公开号:
WO2020/116480A1
申请日:
2019.11.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to a composition, preferably a cosmetic composition, and more preferably a cleansing composition, comprising: (a) at least one polyglyceryl fatty acid diester and/or at least one polyglyceryl fatty acid triester; (b) at least one polyglyceryl fatty acid monoester; and (c) at least one oil, wherein the ingredients (a) and (b) comprise a fatty acid moiety with 6 to 22 carbon atoms, preferably 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 8 to 18 carbon atoms, and 10 or less glycerol units, preferably 8 or less, and more preferably 6 or less, and the average HLB value of the ingredients (a) and (b) ranges from 8.0 to 11.0, preferably from 8.5 to 10.5, and more preferably from 9.0 to 10.0. The composition according to the present invention is stable and can provide sufficient makeup removability and a comfortable feeling just after being rinsed off.La présente invention concerne une composition, de préférence une composition cosmétique, et de préférence encore une composition de nettoyage, comprenant : (a) au moins un diester d'acide gras de polyglycéryle et/ou au moins un triester d'acide gras de polyglycéryle; (b) au moins un monoester d'acide gras de polyglycéryle; et (c) au moins une huile, les ingrédients (a) et (b) comprenant une fraction d'acide gras ayant 6 à 22 atomes de carbone, de préférence 7 à 20 atomes de carbone, et de préférence encore 8 à 18 atomes de carbone, et 10 unités glycérol ou moins, de préférence 8 ou moins, et de préférence encore 6 ou moins, et la valeur HLB moyenne des ingrédients (a) et (b) s'étend de 8,0 à 11,0, de préférence de 8,5 à 10,5, et de préférence encore de 9,0 à 10,0. La composition selon la présente invention est stable et peut fournir une aptitude au retrait de maquillage suffisante et une sensation de confort juste après le rinçage.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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