有机－无机杂化纳米抗磨损、刻化保护膜
- 专利权人:
- 胡立江
- 发明人:
- 胡立江
- 申请号：
- CN02133212.6
- 公开号：
- CN1200964C
- 申请日:
- 2002.10.18
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2005
- 代理人:
- 甄玉荃
- 摘要：
- 有机－无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜，用于树脂镜片。该保护膜是按照下述原料配比及方法制得：第一步，利用溶胶－凝胶法水解缩合三甲氧基硅烷类与正硅酸四乙酯的混合物，合成稳定的SiO2-SSO无机纳米结构颗粒，此步合成条件：稀释溶剂为四氢呋喃或醇，稀释比例为3∶1；催化剂用甲酸HCOOH和水H2O，HCOOH∶Si＝3～6，H2O∶Si＝0.16～3；合成温度为25～70℃；第二步，向反应体系中加入活性交联剂和稀释溶剂，稀释比例为3～5∶1；树脂镜片采用浸涂法，固化后可形成网状保护膜。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
