一种含钛有机—无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜
- 专利权人:
- 哈尔滨工业大学
- 发明人:
- 胡立江,王砥
- 申请号：
- CN200810135282.0
- 公开号：
- CN101644786A
- 申请日:
- 2008.08.07
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2010
- 代理人:
- 摘要：
- 一种含钛有机—无机杂化纳米抗磨损、刻划保护膜。该膜涉及主要适用于树脂镜片的抗磨损、刻划保护材料。是针对现有树脂镜片比较软、容易磨损和被刻划、影响配戴效果等不足之处而发明的。该杂化杂化膜是通过二步原料配比及合成方法实现的：第一步，利用溶胶—凝胶法水解缩合3-(2，3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷与钛酸四丁脂，合成稳定的含钛倍半硅氧烷溶胶液。第二步，向含钛倍半硅氧烷中加入交联剂己二胺和稀释溶剂四氢呋喃；树脂镜片采用浸涂法，加温固化，形成网状的含钛有机—无机杂化纳米结构保护膜。本发明的特点在于该保护膜的配方科学，合成方法简单，具有良好的抗磨损、抗刻划性能，易于推广。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
