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SYSTEMS AND METHODS FOR REDUCING SCAR FORMATION ABOUT A NEURAL IMPLANT
专利权人:
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
发明人:
SPENCER, Kevin C.,SY, Jay Christopher,CIMA, Michael J.
申请号:
USUS2016/035679
公开号:
WO2016/196903A1
申请日:
2016.06.03
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
Systems, devices, and methods are provided for reducing scar formation about a neural implant due to brain tissue and neural implant movement. In an embodiment, a neural implant is provided which has a surface coating that matches one or more mechanical properties, such as elastic modulus, of the brain tissue, thereby reduce scar formation about the neural implant due to normal brain micromotion.La présente invention concerne des systèmes, des dispositifs et des procédés pour réduire la formation dune cicatrice autour dun implant neuronal due à un mouvement du tissu cérébral et dun implant neuronal. Dans un mode de réalisation, un implant neuronal comporte un revêtement de surface qui correspond à une ou plusieurs propriétés mécaniques du tissu cérébral, telles que le module délasticité, ce qui permet de réduire la formation dune cicatrice autour de limplant neuronal due à un micromouvement normal du cerveau.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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