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Hydroponics equipment
专利权人:
パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人:
安部 英里香,山本 憲
申请号:
JP2019014968
公开号:
JP2020120616A
申请日:
2019.01.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hydroponic cultivation device which can more easily keep the environment in a cultivation tank clean. A hydroponic cultivation apparatus 10 supports a cultivation tank 310 in which a space S1 in which an underground part 61 of a plant 60 grows is formed, and supports the plant 60 so that the underground part 61 of the plant 60 is located in the space S1. And a supporting part 320 for Further, the hydroponic cultivation apparatus 10 is arranged below the mist supply unit 41 that supplies the nutrient solution L to the underground portion 61 of the plant 60 by spraying the nutrient solution L, and below the underground portion 61 of the plant 60. And a receiving portion 90 for receiving the putrefaction material 64. And the receiving part 90 is arrangepositioned in the space S1 in the state which can be taken out from the side wall part 312 of the cultivation tank 310 to the exterior. [Selection diagram] Figure 2【課題】より容易に栽培槽内の環境を清浄に保つことができる水耕栽培装置を提供する。【解決手段】水耕栽培装置10は、植物60の地下部61が成長する空間S1が形成された栽培槽310と、植物60の地下部61が空間S1内に位置するように植物60を支持する支持部320と、を備える。さらに、水耕栽培装置10は、養液Lを噴霧することにより植物60の地下部61に養液Lを供給するミスト供給部41と、植物60の地下部61の下方に配置されて植物60の腐敗物64を受ける受け部90と、を備える。そして、受け部90が、栽培槽310の側壁部312から外部に取り出し可能な状態で空間S1内に配置されている。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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