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Vorrichtung zur UV-Bestrahlung
专利权人:
UMEX GmbH Dresden
发明人:
Andreas, Dr. Meyer,Steffen Johne,Heido Herrmann
申请号:
DE102010042670
公开号:
DE102010042670B4
申请日:
2010.10.20
申请国别(地区):
DE
年份:
2013
代理人:
摘要:
Vorrichtung (1) zur UV-Bestrahlung eines flüssigen oder gasförmigen Mediums, umfassend zumindest eine UV-Strahlungsquelle (6), wobei zwischen einem von dem Medium durchströmbaren Reaktionsraum (5) und zumindest einem UV-Strahlung emittierenden Bereich (15) der UV-Strahlungsquelle (6) zumindest zwei voneinander beabstandete UV-durchlässige Wandungen (8, 9) angeordnet sind und wobei ein erster Zwischenraum (7) zwischen den voneinander beabstandeten Wandungen (8, 9) evakuiert oder evakuierbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem von dem Medium durchströmbaren Reaktionsraum (5) und Sockelbereichen (14) der UV-Strahlungsquelle (6) maximal eine Wandung (8, 9, 10) angeordnet ist.The apparatus (1) for the uv - irradiation of a liquid or gaseous medium, comprising at least one uv - radiation source (6), wherein between one of the medium flow reaction chamber (5) and at least one uv - radiation emitting area (15) of the uv - radiation source (6) at least two spaced uv - permeable walls (8, 9) are arranged and in which a first intermediate space (7) between said spaced apart walls (8, 9) is evacuated or can be evacuated, characterized in that between the of the medium flow reaction chamber (5) and base regions inserted (14) of the uv - radiation source (6) a maximum of a wall (8, 9, 10) is arranged.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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