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光安定性化粧用組成物
专利权人:
UNILEVER NV
发明人:
PRASUN BANDYOPADHYAY,バンデイオパジヤイ,プラスン,GAURAV KUMAR,クマール,ガウラブ
申请号:
JP2014073684
公开号:
JP2014139228A
申请日:
2014.03.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide photostable cosmetic compositions comprising dibenzoylmethane sunscreens.SOLUTION: A photostable cosmetic composition comprises: a) 0.1 to 10 wt.% of dibenzoylmethane or its derivative b) 0.1 to 10 wt.% of p-methoxycinnamic acid or its derivative, where the composition comprises 0.5 to 8 wt.% of C8-C18 fatty alcohol ethoxylate and 0.5 to 8 wt.% of polyalkyleneglycol.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】ジベンゾイルメタンの日焼け止め剤を含む光安定性化粧用組成物の提供。【解決手段】a)0.1~10重量%のジベンゾイルメタン又はこの誘導体、及びb)0.1~10重量%のp-メトキシケイ皮酸又はこの誘導体を含み、更に0.5~8重量%のC8~C18脂肪族アルコールエトキシレート及び0.5~8重量%のポリアルキレングリコールを含む光安定性化粧用組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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