在假体器件上形成整料纳米结构
- 专利权人:
- 丹麦科技大学
- 发明人:
- 欧亦宇,P·M·彼得森
- 申请号：
- CN202180038557.2
- 公开号：
- CN115768495A
- 申请日:
- 2021.05.27
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 本公开涉及一种用于在可植入器件上形成整料纳米结构的方法，该方法包括：a.将金属膜沉积到可植入器件的表面；b.将金属膜加热一段时间，使得金属膜转变成多个离散的纳米颗粒，该多个纳米颗粒由此在所述可植入器件的表面上形成蚀刻掩模；c.蚀刻所述可植入器件，使得所述可植入器件的表面通过所述蚀刻掩模被蚀刻，从而在所述可植入器件的表面上形成整料纳米结构；和d.(任选地)去除所述蚀刻掩模，例如通过浸入王水溶液中。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
