HARALD HUNDORF,ハラルト、フンドルフ,PETER OSTLE,ペーター、オストル,LINK SIEGFRIED,ジークフリート、リンク,MARTIN DOHMEN,マルティン、ドーメン
申请号：
JP2014198748
公开号：
JP2015027546A
申请日:
2014.09.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved apparatus and process for depositing particulate material onto a substrate in an accurate manner and cost effective manner, even at high speed and even when very small quantities of fine particulate material are transferred around a surface area.SOLUTION: An apparatus includes: a first moving endless surface in which reservoirs transfer particulate material to a second moving endless surface 200； and the second moving endless surface being adjacent to and in gas communication with a first vacuum chamber 210 in a receiving zone, and being adjacent to and in gas communication with a second vacuum chamber 220 in a transferring zone, where the receiving zone and the transferring zone are adjacent to each other. The ratio of a negative vacuum pressure in the first vacuum chamber to the negative vacuum pressure in the second vacuum chamber is at least 4:3.【課題】高速で、ごく小量の微粒子状材料が表面領域あたり移動されるときでも、正確な様態及び費用効果の高い様態で、粒子状材料を基材上に配置するための改善された装置及びプロセスを提供する。【解決手段】リザーバが、粒子状材料を第２の運動無端表面２００に移動させる第１の運動無端表面と、第２の運動無端表面が、受容領域において、第１の真空チャンバ２１０と隣接し、かつガス連通し、移動領域において、第２の真空チャンバ２２０と隣接し、かつそれとガス連通し、受容領域及び移動領域が、相互に隣接する第２の運動無端表面とを含み、第１の真空チャンバにおける真空負圧の、第２の真空チャンバにおける前記真空負圧に対する比率が、少なくとも４：３である、装置である。【選択図】図４
