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整髪用化粧料
专利权人:
SHISEIDO CO LTD
发明人:
KURASHIMA KO,倉島 巧,KAMIYA YUKI,上谷 祐樹,FUJIYAMA TAIZO,藤山 泰三,TOYODA TOMONORI,豊田 智規
申请号:
JP2010193292
公开号:
JP2012025727A
申请日:
2010.08.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic preparation for hair styling which is a water-based preparation, has a low viscosity, is excellent in hair-dressing force, hair-redressing force, and set-holding force, is free from stickiness, is smooth, and is excellent in the lightness of finish.SOLUTION: The cosmetic preparation for hair styling is characterized by including (a) 1.5-12 mass% of a surfactant solid at atmospheric pressure (25°C), (b) a polyalkylene glycol polymer liquid at atmospheric pressure (for example, polyethylene glycol having a Mw of 200-900), and (c) a film-forming polymer, and having a viscosity of &le10,000 mPa s (25°C, B type viscometer).COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】水性系で低粘度でありながら整髪力、再整髪力、セット保持力に優れ、しかも、べたつきがなく、滑らかで、仕上がりの軽さに優れる整髪用化粧料を提供する。【解決手段】(a)常温(25℃)で固体の界面活性剤を1.5~12質量%、(b)常温で液体のポリアルキレングリコール重合体(例えば、Mw200~900のポリエチレングリコール等)、および(c)皮膜形成性高分子を含有し、系の粘度が10,000mPa・s以下(25℃、B型粘度計)である整髪用化粧料。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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