Entsprechend einer Ausführungsform ist eine Ionenquelle mit einem evakuierten stromab gelegenen Gerät (50) vorgesehen. Die Ionenquelle enthält eine Vakuumkammer (10), die evakuiert ist, ein Ziel (13), das in der Vakuumkammer eingesetzt ist und Ionen durch Einstrahlen mit einem Laserstrahl generiert, eine Transporteinheit (17, 18, 19, 20), die die durch das Ziel generierten Ionen zu dem stromab gelegenen Gerät transportiert, und eine Vakuumabdichteinheit (24), die die Transporteinheit abdichtet, um so die Vakuumbedingungen auf der Seite der Vakuumkammer und auf der Seite des stromab gelegenen Geräts zu trennen, bevor das Ziel, das in der Vakuumkammer eingesetzt ist, ausgetauscht wird.In accordance with one embodiment, an ion source with an evacuated downstream apparatus (50) is provided. The ion source contains a vacuum chamber (10), which is evacuated, a target (13), which is inserted in the vacuum chamber, and ions by irradiating with a laser beam is generated, a transport unit (17, 18, 19, 20), the ions generated by the target to the downstream apparatus is to be transported, and a vacuum sealing unit (24), which seals off the transport unit, so that the vacuum conditions on the side of the vacuum chamber and on the side of the downstream device to separate before the target, which is inserted in the vacuum chamber, is exchanged.
