The present invention relates to an RF treatment device and a control method thereof, an RF generator for generating a plurality of RF pulses for treatment with a predetermined energy, a monitoring unit for monitoring tissue state information by each RF pulse, and the monitoring Provides an RF treatment apparatus further comprising a control unit for controlling the parameters of the RF pulse by monitoring the state information sensed by the unit. According to the present invention, it is possible to proceed with the optimal treatment by grasping the tissue characteristics of the treatment site and transmitting the appropriate RF pulse to proceed with the treatment.본 발명은 RF 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것으로, 기 설정된 에너지를 갖는 치료용 RF 펄스를 복수회로 발생시키는 RF 발생부, 상기 각 RF 펄스에 의한 조직의 상태 정보를 모니터링하는 모니터링부, 상기 모니터링부에서 감지된 상태 정보를 모니터링하여 RF 펄스의 파라미터를 조절하는 제어부；를 더 포함하는 RF 치료장치 및 이의 제어방법을 제공한다. 본 발명에 의할 경우, 치료 위치의 조직 특성을 파악하고 적합한 RF 펄스를 전달하여 치료를 진행함으로써 최적의 치료를 진행하는 것이 가능하다.
