The present invention relates to an RF treatment apparatus and a method for controlling the same. More specifically, the present invention relates to the RF treatment apparatus and the method for controlling the same, wherein the RF treatment apparatus comprises: a RF generating part for generating a plurality of therapeutic RF pulses having a predetermined energy； a monitoring part for monitoring state information of tissues by each of the RF pulse； and a control part for controlling a parameter of the RF pulse by monitoring the state information detected by the monitoring part. According to the present invention, it is possible to proceed the best treatment by grasping tissue characteristics of a treatment location and delivering an appropriate RF pulse to proceed with the treatment.본 발명은 RF 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것으로, 기 설정된 에너지를 갖는 치료용 RF 펄스를 복수회로 발생시키는 RF 발생부, 상기 각 RF 펄스에 의한 조직의 상태 정보를 모니터링하는 모니터링부, 상기 모니터링부에서 감지된 상태 정보를 모니터링하여 RF 펄스의 파라미터를 조절하는 제어부；를 더 포함하는 RF 치료장치 및 이의 제어방법을 제공한다. 본 발명에 의할 경우, 치료 위치의 조직 특성을 파악하고 적합한 RF 펄스를 전달하여 치료를 진행함으로써 최적의 치료를 진행하는 것이 가능하다.
