The invention relates to a compound of general formula (I), where: R1, R2 and R3 are each independently a hydrogen atom or a saturated or unsaturated, straight or branched C1 to C5 alkyl group； m is an integer from 1 to 4； and n is an integer from 2 to 4； characterised in that the cycle is saturated and includes 5 to 8 carbon atoms, in that the total number of carbon and radicals R1, R2 and R3 in the cycle is 7 to 11, and in that it is understood that said compound of formula (I) is not: 6-cycloheptylidenehexanal, 4-(4-methylcyclohexylidene)-butanal, 4-(4-tert-butylcyclohexylidene)-butanal, or 4-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene)-butanal, as well as to a method for synthesising said compounds and to the uses thereof in the perfume industry.L'invention concerne un composé de formule générale (I), dans laquelle : R1, R2 et R3 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou groupement alkyle C1 à C5 saturé ou insaturé, ramifié ou non ramifié； m est un nombre entier compris entre 1 et 4； n est un nombre entier compris entre 2 et 4； caractérisé en ce que le cycle est saturé et comprend de 5 à 8 carbones, que le nombre total de carbone du cycle et des radicaux R1, R2 et R3 est compris entre 7 et 11 et étant entendu que ledit composé de formule (I) n'est pas : - le 6-cycloheptylidènehexanal - le 4- (4-méthylcyclohexylidène) -butanal - le 4- (4-tert-butylcyclohexylidène) -butanal - le 4- (3, 3, 5-triméthylcyclohexylidène) -butanal ainsi qu'un procédé de synthèse desdits composés, et leurs utilisations en parfumerie.
