BRISBOIS, Elizabeth, J.,HANDA, Hitesh,MEYERHOFF, Mark, E.
申请号：
USUS2014/015086
公开号：
WO2014/124125A3
申请日:
2014.02.06
申请国别(地区):
WO
年份:
2015
代理人:
摘要：
A polymeric film includes a polymer matrix having at least one of a discrete RSNO adduct or a polymeric RSNO adduct associated therewith, by: covalent attachment to the polymer matrix dispersion within the polymer matrix or both, with the at least one of the discrete RSNO adduct or the polymeric RSNO adduct capable of releasing nitric oxide (NO). The polymer matrix is a polyurethane polymer matrix, a silicone rubber polymer matrix, or a copolymer matrix of polyurethane and silicone rubber. The polymeric film is to exhibit stability under dry conditions at 37°C and prolonged and controllable NO release rates, when exposed to moisture or light capable of photolyzing an RSNO bond, for a predetermined amount of time from the at least one of the discrete RSNO adduct or the polymeric RSNO adduct.Linvention concerne un film polymère qui comprend une matrice de polymère ayant un adduit de RSNO discret et/ou un adduit de RSNO polymère associé avec celle-ci par : attache covalente à la matrice de polymère dispersion dans la matrice de polymère ou les deux, ladduit de RSNO discret et/ou ladduit de RSNO polymère étant apte à libérer de loxyde nitrique (NO). La matrice de polymère est une matrice de polymère de polyuréthane, une matrice de polymère de caoutchouc de silicone ou une matrice de copolymère de polyuréthane et de caoutchouc de silicone. Le film polymère doit présenter une stabilité dans des conditions sèches à 37°C et des vitesses de libération de NO prolongées et contrôlables, lorsquil est exposé à de lhumidité ou à la lumière apte à photolyser une liaison RSNO, pendant une quantité prédéterminée de temps à partir de ladduit de RSNO discret et/ou ladduit de RSNO polymère.
