具有足部三维运动控制及足压分散的装置
- 专利权人:
- 欧立达股份有限公司
- 发明人:
- 刘克涛,杨世伟,陈宗欣,小林永芳
- 申请号：
- CN201710013193.8
- 公开号：
- CN106974756A
- 申请日:
- 2017.01.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种具有足部三维运动控制及足压分散的装置，当人体在行进动作时用以控制足部关节三维运动及足压分散，可支撑足弓，及调整足部各关节因着地时的运动及地面反作用力所造成的异常足压。其包括足弓支撑本体，用以支撑足部的内侧纵弓、横弓与外侧纵弓。在行进时用以控制中、前足的关节运动，分散前足足压。足弓支撑本体后端至少一侧向相对应的后足足跟部延伸形成后足运动调整部，用以调整后足内外翻角度，加强足跟软组织的吸震度，提供后足着地运动的稳定度，进而降低足跟足压。在足弓支撑部上另有刚性加强部，用以加强控制不同型态的足部过度或不足旋前运动。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
