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광 치료장치 및 이의 제어방법
专利权人:
LUTRONIC CORPORATION
发明人:
HWANG HAE LYUNG,황해령,ROBERT GLEN CALDERHEAD,로버트 글렌 칼더헤드,HA, TAE HO,하태호
申请号:
KR1020110137844
公开号:
KR1020120069588A
申请日:
2011.12.20
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
PURPOSE: A light treatment apparatus and a control method thereof are provided to improve treatment effects regardless of the output of light source.CONSTITUTION: A light treatment apparatus comprises one or more plates(110), a plurality of first light sources(121), and a plurality of second light sources(122). A plurality of the first light sources and second light sources are equipped in the plate and emit light to the affected area of a patient. The first light source and second light source irradiate light having different wavelength. The first light source irradiates the light of the wave length of a visible light region. The second light source irradiates the light of the wave length of a near-infrared radiation region.COPYRIGHT KIPO 2012본 발명은 다수개의 광원을 이용하여 환자의 치료 부위를 치료하는 광 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것으로, 적어도 하나의 플레이트 그리고 상기 플레이트에 구비되며 환자의 치료 부위로 광을 조사하는 다수개의 제1 광원 및 제2 광원을 포함하고, 상기 제1 광원 및 상기 제2 광원은 서로 다른 파장의 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 광 치료장치 및 이의 제어방법을 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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