Systems and methods for sub-aperture correlation based wavefront measurement in a thick sample and correction as a post processing technique for interferometric imaging to achieve near diffraction limited resolution are described. Theory, simulation and experimental results are presented for the case of full field interference microscopy. The inventive technique can be applied to any coherent interferometric imaging technique and does not require knowledge of any system parameters. In one embodiment of the present application, a fast and simple way to correct for defocus aberration is described. A variety of applications for the method are presented.La présente invention porte sur des systèmes et des procédés pour mesure de front donde basée sur corrélation de sous-ouverture dans un échantillon épais et correction en tant que technique de post-traitement pour imagerie interférométrique pour atteindre une résolution limitée proche de diffraction. Une théorie, des résultats de simulation et expérimentaux sont présentés pour le cas dune microscopie à interférence à champ total. La technique de la présente invention peut être appliquée à une quelconque technique dimagerie interférométrique cohérente et ne requiert pas de connaissance de quelconques paramètres de système. Selon un mode de réalisation de la présente invention, une façon rapide et simple de corriger une aberration de défocalisation est décrite. La présente invention porte également sur multiples applications du procédé.
