您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
表面加工方法、構造体の製造方法
- 专利权人:
- 学校法人 名古屋電気学園;浜松ホトニクス株式会社
- 发明人:
- 岩田 博之,河口 大祐
- 申请号：
- JP20160156702
- 公开号：
- JP2018023990(A)
- 申请日:
- 2016.08.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】ブリスタリングを利用して加工対象物の表面を効率的に加工することができる表面加工方法、及び構造体の製造方法を提供する。【解決手段】まず、Ｓｉウェハ２００に対してイオン注入を行うことにより、Ｓｉウェハ２００にイオン注入層２３０を形成する。続いて、Ｓｉウェハ２００の内部にレーザ光の焦点１４０を合わせてレーザ光を照射して、Ｓｉウェハ２００のうちレーザ光の照射部分を局所的に加熱する。これにより、Ｓｉウェハ２００にブリスタリング２５０を発生させることにより、Ｓｉウェハ２００の表面２１０に構造体２６０として、表面２１０の一部が隆起した隆起構造を形成する。この方法によると、Ｓｉウェハ２００の内部を局所的に急速かつ容易に加熱することができるので、ブリスタリング２５０を利用してＳｉウェ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
