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二酸化塩素ガスの製造方法
专利权人:
大陽日酸株式会社
发明人:
野村 祐司,▲高▼野 直幸,太田 英俊,尾上 薫
申请号:
JP2017030643
公开号:
JP2018135239A
申请日:
2017.02.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
To provide a method for producing chlorine dioxide gas which does not discharge waste which is difficult to handle, can easily control the concentration of chlorine dioxide gas to be produced, and can generate chlorine dioxide gas safely and efficiently provide.SOLUTION: A mixed gas D of chlorine A, oxygen B and inert gas C is supplied to an inductively coupled atmospheric pressure microplasma apparatus 10, and a plasma reaction field generated by the inductively coupled atmospheric pressure microplasma apparatus 10 In R, chlorine A and oxygen B are activated and reacted to produce chlorine dioxide gas G.BACKGROUND OF THE INVENTION【課題】取り扱いの難しい廃棄物を排出することがなく、また、生成する二酸化塩素ガスの濃度のコントロールが容易で、安全且つ効率よく二酸化塩素ガスを生成させることができる二酸化塩素ガスの製造方法を提供する。【解決手段】塩素A、酸素B、及び不活性ガスCの混合ガスDを誘導結合型大気圧マイクロプラズマ装置10に供給し、この誘導結合型大気圧マイクロプラズマ装置10で発生させたプラズマ反応場Rにおいて、塩素A及び酸素Bを活性化して反応させることにより、二酸化塩素ガスGを生成する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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