at the time of the inspection mask sipyo by crossing, in memory of the hassle of checking sipyo eye movement by alleviates the response.sipyo time the device is a light-guiding optical system for guiding The target analyte in flux, and also the upper and lower multiple stages and sipyo The target plate has a plurality of sipyo drawn on the screen each stage, sipyo the mask plate having a mask for a portion of time, and light guide optical system The target optically inclined screen provided with a beam splitter on an optical axis of the concave mirror and the concave mirror to a predetermined check time in the distance, in the horizontal direction extending the rotation center of the beam splitter means for rotating the rotary shaft, when the selection signal in the horizontal line in the mask by mask selection input means, on the basis of the arrangement information and the arrangement information of the light guide optical system in the cross-line mask is applied sipyo, determining a rotation angle about the same height as the eyes of rotating the beam splitter to position the mask takes sipyo transverse line in the vertical direction ( ) of the eye to be examined, and the driving of the upper and lower rotating means according to the determined angle of rotation ( ) and a control means for controlling.마스크 걸침에 의한 검사 시표의 정시시에, 시선 이동의 번거로움과 검사 시표의 기억에 의한 응답을 경감시킨다.시표 정시 장치는, 시표 광속을 피검안으로 유도하는 도광 광학계로서, 상하 복수 단이고 또한 각 단에 복수의 시표가 그려진 시표 화면을 갖는 시표판과, 시표의 일부를 정시하는 마스크를 갖는 마스크판과, 시표 화면을 광학적으로 소정의 검사 거리에서 정시하는 오목면 미러 및 그 오목면 미러의 광축 상에 경사지게 설치된 빔 스플리터를 갖는 도광 광학계와, 좌우 방향으로 연장되는 회전축을 중심으로 빔 스플리터를 회전시키는 회전 수단과, 마스크 선택 수단에 의해 횡 일렬 마스크의 선택 신호가 입력되었을 때, 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표의 배치 정보 및 도광 광학계의 배치 정보에 기초하여, 피검안의 대략 동일 높이의 시선상에 횡 일렬 마스크가 걸리는 시표를 위치시키도록 빔 스플리터를 상하 방향으로 회전시키는 회전 각도 (α) 를 결정하고, 그 결정된 회전 각도 (α) 에 따라 상하 회전 수단의 구동을 제어하는 제어 수단을 구비한다.
