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PATTERN FORMING PIPE, EXPOSURE SYSTEM, ETCHING SYSTEM, AND ETCHING METHOD
专利权人:
株式会社協成
发明人:
松浦 操
申请号:
JP2018503612
公开号:
JPWO2018139371A1
申请日:
2018.01.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
A mask pattern for etching is accurately transferred to a tubular member (tubular body). A translucent pipe 10 in which a mask pattern 15 corresponding to an opening pattern to be formed on a stent is formed on a wall and a stent material 100 is inserted without being displaced, and the pipe 10 Several light sources 20 located in the periphery, a sealing device 30 for sealing the inner wall of the pipe 10 with a photosensitive substance, a liquid bath 50 for developing the stent material 100 in the pipe 10 exposed by the exposure device 20, And a liquid bath 60 for etching the stent material 100 whose inner wall is sealed by the sealing device 30. [Selection] Figure 2【課題】エッチングのためのマスクパターンを管状部材(筒状体)に対して正確に転写すること。【解決手段】ステントに形成しようとしている開口パターンに対応するマスクパターン15が壁部に形成されていてステント材100が位置ずれせずに挿入される透光性のあるパイプ10と、パイプ10の周辺に位置するいくつかの光源20と、パイプ10の内壁を感光性物質でシールするシール装置30と、露光装置20によって露光したパイプ10内のステント材100を現像するための液槽50と、シール装置30によって内壁がシールされたステント材100をエッチングするための液槽60とを備える。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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