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TUYAU DE FORMATION DE MOTIF, SYSTÈME D'EXPOSITION, SYSTÈME DE GRAVURE ET PROCÉDÉ DE GRAVURE
专利权人:
KYOSEI CO., LTD.; LTD.;株式会社協成;KYOSEI CO.
发明人:
MATSUURA, Misao,松浦操
申请号:
JPJP2018/001644
公开号:
WO2018/139371A1
申请日:
2018.01.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
[Problem] To accurately transfer, to a tube-like member (cylindrical body), a masking pattern for performing etching. [Solution] Provided are: a translucent pipe 10 into which a stent material 100 is inserted without causing positional displacement, wherein a masking pattern 15 corresponding to an opening pattern to be formed in a stent is formed in a wall section of the pipe 10; several light sources 20 that are positioned in an area around the pipe 10; a sealing device 30 that seals an inner wall of the pipe 10 by using a photosensitive substance; a liquid tank 50 for developing the stent material 100 in the pipe 10, which has been exposed to light by using exposure devices 20; and a liquid tank 60 for etching the stent material 100 in which the inner wall has been sealed by using the sealing device 30.Le problème décrit par la présente invention est de transférer avec précision, à un élément de type tube (corps cylindrique), un motif de masquage pour effectuer une gravure. La solution selon l'invention porte sur : un tuyau translucide (10) dans lequel un matériau de stent (100) est inséré sans provoquer de déplacement de position, un motif de masquage (15) correspondant à un motif d'ouverture à former dans un stent étant formé dans une section de paroi du tuyau (10) ; plusieurs sources de lumière (20) qui sont positionnées dans une zone autour du tuyau ; un dispositif d'étanchéisation (30) qui étanchéifie une paroi interne du tuyau (10) à l'aide d'une substance photosensible ; un réservoir de liquide (50) pour développer le matériau de stent (100) dans le tuyau (10), qui a été exposé à la lumière en utilisant des dispositifs d'exposition (20) ; et un réservoir de liquide (60) pour graver le matériau de stent (100) dans lequel la paroi interne a été étanchéifiée à l'aide du dispositif d'étanchéité (30).【課題】エッチングのためのマスクパターンを管状部材(筒状体)に対して正確に転写すること。 【解決手段】ステントに形成しようとしている開口パターンに対応するマスクパターン15が壁部に形成されていてステント材100が位置ずれせずに挿入される透光性のあるパイプ10と、パイプ10の周辺に位置するいくつかの光源20と、パイプ10の内壁を
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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