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荷電粒子照射システム及び照射計画装置
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
藤井 祐介,平本 和夫,長峯 嘉彦
申请号:
JP2010035546
公开号:
JP5409428B2
申请日:
2010.02.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means for irradiating a moving irradiation object with beam scanning and energy stacking to form uniform dose distribution in a charged particle irradiation system.SOLUTION: The charged particle irradiation system includes: a charged particle beam generator 1 setting a target beam current value to emit ion beams an irradiation device 21 having scanning electromagnets 23, 24 and an energy filter 26 and emitting ion beams and a monitoring device 66 measuring the position of the irradiation object and outputting signals that vary with time according to the displacement of the irradiation object. The emission timing of ion beams is determined based on the signals output from the monitoring device, and the energy of the ion beams is sequentially changed to perform repainting irradiation with each energy.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】荷電粒子照射システムにおいて、ビーム走査とエネルギースタッキングにより動く照射対象を照射し、一様な線量分布を形成したいニーズがある。【解決手段】目標ビーム電流値を設定してイオンビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置1と、走査電磁石23,24及びエネルギーフィルタ26を有し、イオンビームを出射する照射装置21と、照射対象の位置を測定し、照射対象の移動によって時間変化する信号を出力する監視装置66を備え、監視装置から出力される信号に基づいて、イオンビームの出射タイミングを決定し、イオンビームのエネルギーを順次変更して各エネルギーでリペイント照射することで、上記課題を解決する。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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