SILICE HAUTEMENT NETTOYANTE ET FAIBLEMENT ABRASIVE, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

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专利权人:

J.M. HUBER CORPORATION

发明人:

SINCLAIR, Fitzgerald, A.

申请号：

USUS2014/027687

公开号：

WO2014/152745A1

申请日:

2014.03.14

申请国别(地区):

US

年份:

2014

代理人:

摘要：

Silica materials having high cleaning and low abrasion properties are described, together with methods of making such materials and dentifrice compositions comprising the silica materials.L'invention concerne des matières de silice hautement nettoyantes et faiblement abrasives, et des procédés de fabrication desdites matières. L'invention concerne également des compositions de dentifrice comprenant les matières de silice.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/