An aperture plate is manufactured by plating metal around a mask of resist columns (2) having a desired size, pitch, and profile, which yields a wafer about 60μιη thickness. This is approximately the full desired target aperture plate thickness. The plating is continued so that the metal (3) overlies the top surfaces of the columns until the desired apertures (4) are achieved. This needs only one masking/plating cycle to achieve the desired plate thickness. Also, the plate has passageways (24) formed beneath the apertures (32), formed as an integral part of the method, by mask material removal. These are suitable for entrainment of aerosolized droplets exiting the apertures (32).Selon l'invention, une plaque à trous est fabriquée par placage de métal autour d'un masque de colonnes de réserve (2) ayant une taille, un pas et un profil souhaités, ce qui permet d'obtenir une tranche ayant une épaisseur d'environ 60 µm. C'est approximativement l'épaisseur totale de la plaque à trous cible souhaitée. Le placage est poursuivi de façon à ce que le métal (3) recouvre les surfaces supérieures des colonnes jusqu'à ce que les trous (4) souhaités soient obtenus. Cela ne nécessite qu'un seul cycle de masquage/placage pour obtenir l'épaisseur de plaque souhaitée. De plus, la plaque a des voies de passages (24) formées au-dessous des trous (32), formées en tant que partie intégrante du procédé, par élimination du matériau de masquage. Ces dernières sont appropriées pour l'entraînement de gouttelettes mises sous forme d'aérosol sortant par les trous (32).
