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流体処理用α線放射体及び装置
专利权人:
林;芳信
发明人:
林 芳信,片山 裕之,古谷 徹
申请号:
JP2016002227
公开号:
JP3205489U
申请日:
2016.05.16
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention effectively provides a fluid treatment for -emitters that can process fluid. and A plate-like holding substrate 20ac, fixed layer 20ad consisting indefinitely heat-resistant adhesive which is formed in the holding substrate 20ac, a fine powder to the main material and 20ae, the thorium oxide It has a certain -radiation material, and part of the fixed layer 20ad of the individual powder 50,52, while in contact with the 20ae, is fixed by burying the holding substrate of the individual powder 50,52 when the height direction and a direction perpendicular to the main surface of 20ac, 50 wt% of the powder on (percent) or more, the height of the portion buried fixed layer 20ad of the individual powder 50, the 20ae is the ratio of the height (h1) of the powder 50 and 52, it is 0.08 to 0.70.FIELD 5【課題】効率的に流体を処理することができる流体処理用α線放射体を提供する。【解決手段】板状の保持基板20acと、保持基板上20acに形成される無期系耐熱接着剤からなる固定層20ad、20aeと、酸化トリウムを主材とする微細な粉体であるα線放射材と、を有し、個々の粉体50、52の一部が固定層20ad、20aeに接しつつ、埋没することで固定されており、個々の粉体50、52の保持基板20acの主面に垂直な方向を高さ方向とするとき、粉体の50重量%(パーセント)以上について、個々の粉体50、52の固定層20ad、20aeに埋没している部分の高さの前記粉体50、52の高さ(h1)に対する比率は、0.08以上0.70以下である。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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