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PHOTOSTABLE COMPOSITIONS COMPRISING PARA-ALKOXYL PHENYL SUBSTITUTED PROPENOIC ACID (APP) DERIVATIVES
专利权人:
HALLSTAR INNOVATIONS CORP.
发明人:
FENG, Hui,HU, Shengkui
申请号:
USUS2016/020952
公开号:
WO2016/141314A2
申请日:
2016.03.04
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present disclosure relates, according to some embodiments, to photostable UV absorbing compositions comprising para-alkoxyl phenyl substituted propenoic acid (APP) derivatives. Furthermore, the present disclosure relates to methods of prolonging the UV absorption capabilities of a composition using photostable UV absorbing compositions comprising APP derivatives.La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, des compositions absorbant les UV photostables comprenant des dérivés dacide propénoïque substitué par para-alcoxylphényle (APP). En outre, la présente invention concerne des procédés permettant de prolonger les capacités dabsorption des UV dune composition à laide des compositions absorbant les UV photostables comprenant des dérivés de lAPP.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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