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PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT POUR L'ÉLIMINATION PERMANENTE DES MOISISSURES
专利权人:
HAICO;BÖHMER, Haico;BÖHMER
发明人:
BÖHMER, HAICO,BÖHMER, Haico
申请号:
EPEP2015/073007
公开号:
WO2016/055449A1
申请日:
2015.10.06
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
Verfahren zur dauerhaften Beseitigung von Schimmelpilz an einer Fläche (2), wobei in einem Anordnungsschritt eine Behandlungsvorrichtung (1) aus einem gelartigen Antischimmelpilzmittel (3) und einem sporendichten Abdeckteil (4) an der zu behandelnden Fläche (2) angeordnet wird und wobei nach dem Anordnungsschritt in einem Nachbehandlungsschritt durch ein Druckstück ein Druck auf das Abdeckteil (4) ausgeübt wird, so dass das Antischimmelpilzmittel (3) sich unter dem Abdeckteil (4) verteilen oder an der zu behandelnden Fläche (2) anhaften kann.The invention relates to a method for the permanent removal of mildew on a surface (2). According to the invention, in a preparation step, a treatment device (1) consisting of gel-like anti-mildew means (3) and a spore-tight cover part (4) is arranged on the surface (2) to be treated. In a post-treatment step, after the preparation step, pressure is applied by means of a pressure part to the cover part (4) such that the anti-mildew means (3) are distributed under the cover part (4) or can adhere to the surface (2) which is to be treated.L'invention concerne un procédé d'élimination permanente des moisissures sur une surface (2) ; dans une étape d'assemblage, un dispositif de traitement (1) constitué d'un agent anti-moisissures gélifié (3) et d'une partie de revêtement (4) étanche aux spores est disposé sur la surface à traiter (2) et, après l'étape d'assemblage, dans une étape de post-traitement, une pression est appliquée sur le couvercle (4) par un élément de pression de sorte que l'agent anti-moisissure (3) peut se répartir sous la partie de revêtement (4) ou adhérer à la surface à traiter (2).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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