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液体処理装置及び液体処理方法
专利权人:
パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人:
今井 伸一,熊谷 裕典,小野寺 真里
申请号:
JP2014543706
公开号:
JPWO2014171138A1
申请日:
2014.04.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present disclosure provides a liquid processing apparatus and a liquid processing method capable of efficiently generating plasma and processing liquid in a short time. A liquid processing apparatus according to an embodiment of the present disclosure includes a first electrode, a second electrode disposed in the liquid, and a second electrode provided so as to surround the first electrode with a space interposed therebetween, and an opening is provided at a position in contact with the liquid And an electric power source for applying an AC voltage or a pulse voltage between the first electrode and the second electrode. In the liquid processing apparatus of the present disclosure, a voltage is applied between a first electrode and the second electrode by a power source to vaporize a liquid in the space to generate a gas, and a gas flows from the opening into the liquid So that plasma is generated.本開示は、プラズマを効率良く発生させ、短時間で液体の処理をすることが可能な液体処理装置及び液体処理方法を提供する。本開示の液体処理装置は、第1の電極と、液体中に配置される第2の電極と、空間を介して第1の電極を囲むように設けられ、該液体に接する位置に開口部を有する絶縁体と、第1の電極と第2の電極との間に交流電圧またはパルス電圧を印加する電源と、を備える。本開示の液体処理装置は、電源によって第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加して、空間内の液体を気化して気体を発生させ、気体が開口部から液体中に放出されるときに放電することにより、プラズマを発生させる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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