冬瓜茬种植大豆覆土抗旱保苗耕作方法
- 专利权人:
- 狄正兴
- 发明人:
- 狄正兴,谈夕凤,狄琦萍
- 申请号:
- CN201410822663.1
- 公开号:
- CN104472198A
- 申请日:
- 2014.12.26
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要:
- 本发明公开了冬瓜茬种植大豆覆土抗旱保苗耕作方法,包括:(A)灭茬,冬瓜腾茬,保留120cm宽的畦面和40cm宽的畦沟,浅旋耕或人工灭茬5-6cm;(B)辟沟,畦面横向辟播种沟深5cm左右,行距30cm;(C)浇水,播种沟内浇足底水;(D)播种,浇水后立即播种大豆;(E)盖种,播种沟内无明水立即用细土盖种,大豆种上细土厚3cm左右;(F)覆土,覆盖细土做到畦面播种沟上看不到印湿的土,大豆种上细土厚3-4cm;(G)保苗,大豆齐苗前后防治昆虫、野兔、野鸽等伤害嫩苗;(H)保湿,播种后原则上每隔5天畦面覆盖一次细土,雨后土壤适耕时畦面及时覆盖细土,减少水份蒸发;(I)管理,做好日常田间管理。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心