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南瓜茬种植大豆覆土抗旱保苗耕作方法
- 专利权人:
- 狄正兴
- 发明人:
- 狄正兴,谈夕凤,狄琦萍
- 申请号：
- CN201410822634.5
- 公开号：
- CN104521513A
- 申请日:
- 2014.12.26
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了南瓜茬种植大豆覆土抗旱保苗耕作方法，包括：（A）灭茬，南瓜腾茬，保留120cm宽的畦面和40cm宽的畦沟，浅旋耕或人工灭茬5-6cm；（B）辟沟，畦面横向辟播种沟深5cm左右，行距30cm；（C）浇水，播种沟内浇足底水；（D）播种，浇水后立即播种大豆，播种量以7月10日1.4万粒为基础，每迟播一天播种量增加5%，最高播种量为2.8万粒；（E）盖种，播种沟内无明水立即用细土盖种，大豆种上细土厚3cm左右；（F）覆土，覆盖细土做到畦面播种沟上看不到印湿的土，大豆种上细土厚3-4cm；（G）保苗，大豆齐苗前后防治昆虫、野兔、野鸽等伤害嫩苗；（H）保湿，播种后原则上每隔5天畦面覆盖一次细土，雨后土壤适耕时畦面及时覆盖细土，减少水份蒸发，播种后20天内畦面覆盖细土4-5次，每次覆盖细土0.8cm左右；（I）管理，做好日常田间管理。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
