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SYSTÈME DE TRAITEMENT AYANT DES RÉSERVOIRS DE PRESSION DÉDIÉS
专利权人:
ASP GLOBAL MANUFACTURING GMBH
发明人:
NGO, Dang Minh,NGUYEN, Thuan Steven
申请号:
IBIB2019/055464
公开号:
WO2020/003205A3
申请日:
2019.06.27
申请国别(地区):
IB
年份:
2020
代理人:
摘要:
A fluid dispensing system and treatment system may be used to purge cleaning fluids from lumens of an endoscope. A portion of a fluid chamber can be filled with liquid by providing liquid through an inlet of the fluid chamber. A sealing pressure can be generated with gas in the fluid chamber and additional filling of the fluid chamber through the inlet can be limited. Liquid from the fluid chamber can be dispensed responsive to the sealing pressure. The dispensing can comprise expelling liquid through an outlet of the fluid chamber utilizing gas. The gas may be pressurized in multiple reservoirs, each one being dedicated to a purge line of the treatment system.Un système de distribution de fluide et un système de traitement de fluide peuvent être utilisés pour purger des fluides de nettoyage à partir de lumières d'un endoscope. Une partie d'une chambre de fluide peut être remplie avec un liquide en fournissant un liquide via un orifice d'entrée de la chambre de fluide. Une pression d'étanchéité peut être générée avec un gaz dans la chambre de fluide et un remplissage supplémentaire de la chambre de fluide via l'orifice d'entrée peut être limité. Le liquide dans la chambre de fluide peut être distribué en réponse à la pression d'étanchéité. La distribution peut comprendre l'évacuation du liquide via un orifice de sortie de la chambre de fluide à l'aide d'un gaz. Le gaz peut être pressurisé dans de multiples réservoirs qui sont chacun dédiés à une ligne de purge du système de traitement.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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