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用于成像系统的局部线圈
专利权人:
西门子公司
发明人:
S.比伯
申请号:
CN201210202891.X
公开号:
CN102830377B
申请日:
2012.06.15
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明涉及一种局部线圈(106),用于成像系统(101),特别是MRT(101),其特征在于,所述局部线圈(106)是MRT头部线圈(106),所述MRT头部线圈(106)被构造(A,L1,L2)用于,能够将患者的头部(K)安置(PP)在所述局部线圈(106)(A)中,并且所述局部线圈(106)具有至少一个匀场线圈(L1,L2)。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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