用于成像系统的局部线圈
- 专利权人:
- 西门子公司
- 发明人:
- S.比伯
- 申请号:
- CN201210202891.X
- 公开号:
- CN102830377B
- 申请日:
- 2012.06.15
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要:
- 本发明涉及一种局部线圈(106),用于成像系统(101),特别是MRT(101),其特征在于,所述局部线圈(106)是MRT头部线圈(106),所述MRT头部线圈(106)被构造(A,L1,L2)用于,能够将患者的头部(K)安置(PP)在所述局部线圈(106)(A)中,并且所述局部线圈(106)具有至少一个匀场线圈(L1,L2)。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心