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DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE FAISCEAU DE PARTICULES
专利权人:
Ion Beam Applications S.A.
发明人:
申请号:
EP10726970.6
公开号:
EP2446718A1
申请日:
2010.06.24
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention relates to a pulsed beam particle accelerator which can be used for particle radiation therapy. More particular, a device and method are provided to control the number of particles within a beam pulse. The particle accelerator comprises means for varying the number of particles within each beam pulse of said pulsed ion beam from a minimum value to a maximum value as function of the value of a beam control parameter. For each particle irradiation the required number of particles for each beam pulse is controlled by defining a value for said beam control parameter based on calibration data.La présente invention concerne un accélérateur de particules à faisceau pulsé pouvant être utilisé pour la thérapie par rayonnement de particules. Plus particulièrement, l'invention concerne un dispositif et un procédé pour contrôler le nombre de particules à l’intérieur d’une impulsion de faisceau. L'accélérateur de particules comporte un moyen pour faire varier le nombre de particules dans chaque impulsion de faisceau dudit faisceau d'ions pulsés depuis une valeur minimale jusqu'à une valeur maximale en fonction de la valeur d’un paramètre de commande de faisceau. Pour chaque irradiation de particules, le nombre nécessaire de particules pour chaque impulsion de faisceau est contrôlé en définissant une valeur pour ledit paramètre de commande de faisceau en fonction de données de étalonnage.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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