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Dielectric Barrier Discharge Plasma Apparatus for Oral Treatment
专利权人:
KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE
发明人:
KIM SEONG BONG,김성봉,YOON SUNG YOUNG,윤성영,OH JAESUNG,오재성,RYU SEUNGMIN,유승민
申请号:
KR1020180034292
公开号:
KR1020136590000B1
申请日:
2018.03.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
A plasma apparatus for oral treatment according to an embodiment of the present invention, comprises: a mouthpiece comprising a fluid inlet and a fluid exhaust port and having a tooth groove inserted into the teeth forming an arch to cover the end surface of a crown; a first plasma generating unit facing the tooth groove and disposed in the mouthpiece; a second plasma generating unit disposed on the mouthpiece while facing the first plasma generating unit; a fluid supply unit for injecting gas or processing liquid into the fluid inlet; an external power source for supplying power to the first plasma generating unit and the second plasma generating unit to generate plasma using the gas or the processing liquid; and a pump configured to exhaust the gas or the processing liquid collected through the fluid exhaust port of the mouthpiece.본 발명의 일 실시예에 따른 구강 처리용 플라즈마 장치는, 유체 유입구 및 유체 배기구를 포함하고 치열궁을 이루는 치아들에 삽입되어 치관의 끝면을 덮는 치아홈을 구비한 마우스피스; 상기 치아홈을 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제1 플라즈마 발생부; 상기 제1 플라즈마 발생부를 바라보고 상기 마우스피스에 배치된 제2 플라즈마 발생부; 상기 유체 유입구에 가스 또는 처리액을 주입하는 유체 공급부; 상기 가스 또는 처리액을 이용하여 플라즈마를 발생시키도록 상기 제1 플라즈마 발생부 및 상기 제2 플라즈마 발생부에 전력을 공급하는 외부 전원; 및 상기 마우스피스의 상기 유체 배기구를 통하여 수집된 가스 또는 처리액을 배기하는 펌프;를 포함한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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