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PROCESS FOR PRODUCTION OF ISOXAZOLINE-SUBSTITUTED BENZOIC ACID AMIDE COMPOUND
专利权人:
닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤
发明人:
코우사카, 히로유키,후쿠야, 슌스케,모리야마, 유지,야오사카, 마나부,미즈코시, 타카시
申请号:
KR1020117003061
公开号:
KR1016084560000B1
申请日:
2009.07.09
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
Wherein X represents a halogen atom, C 1 -C 6 Denotes a haloalkyl, etc., Y is halogen atom, C 1 ~ C 6 refers to such alkyl, R 1 is C 1 ~ C 6 denotes a haloalkyl, etc., L is a chlorine atom, a bromine atom, -C (O) OH, - C (O) J and the like, J represents a halogen atom, m represents an integer of 0 to 5, and n represents an integer of 0 to 4, and an isoxazoline-substituted benzene compound represented by the formula formula (2): wherein R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, C 1 ~ C 6 alkyl or the like, R4 is a C 1 ~ C 6 alkyl, C 1 ~ C 6 denotes a haloalkyl, such as, Aminoacetic acid amide compound represented by the general formula (1): wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or a C 1 -C 6 alkyl group, , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , m and n have the same meanings as defined above], a crystal form and a method for producing the isoxazoline substituted benzoic acid amide compound.일반식 (3)[식 중 X는 할로겐 원자, C1~C6할로 알킬 등을 나타내고, Y는 할로겐 원자 C1~C6 알킬 등을 나타내며, R1은 C1~C6 할로 알킬 등을 나타내고, L은 염소원자, 브롬원자, -C(O)OH, -C(O)J 등을 나타내고, J는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0~5의 정수(整數)를 나타내며, n은 0~4의 정수를 나타낸다.]에서 나타내지는 이속사졸린 치환 벤젠화합물과 일반식 (2)[식 중 R2 및 R3는 각각 독립하여 수소원자, C1~C6 알킬 등을 나타내고, R4는 C1~C6 알킬, C1~C6 할로 알킬 등을 나타내고, R5는 수소원자, C1~C6 알킬 등을 나타낸다.]에서 나타내지는 2-아미노 아세트산 아미드 화합물 또는 그 염을 반응시키는 것에 의한, 일반식 (1)[식 중, X, Y, R1, R2, R3, R4, R5, m 및 n은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]에서 나타내지는 이속사졸린 치환 안식향산 아미드 화합물의 제조방법, 결정형 및 그 제조방법.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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