NÄSLUND, Lars-Åke,BENGTSSON, Kristoffer,MELLBIN, Håkan,HALLSTADIUS, Hans,HANSEN, Fredrik,LAVALLE, Marco
申请号：
EPEP2013/075082
公开号：
WO2014/086674A3
申请日:
2013.11.29
申请国别(地区):
WO
年份:
2014
代理人:
摘要：
The present invention relates to an irradiation device (36) for irradiating objects (12) with electron beams (16). The irradiation device (36) comprisesat least one electron beam emitter (10) having an electron exit window (20)and at least one sensor device (56) for detecting a first dose control parameter of the electron beam (16). The electron beam emitter (10) is adapted to move past the sensor device (56) such that the electron beam (16) emitted from the electron exit window (20) passes within a sensing area (58) of the sensor device (56). Said sensor device comprises more than one conductor (64) each having a conductor surface (68) in the sensing area (58) of the sensor device (56), and the conductor surface (68) is adapted to be exposed to electrons of said electron beam (16).The invention also relates to a method.La présente invention concerne un dispositif (36) dirradiation pour irradiation dobjets (12) avec des faisceaux (16) délectrons. Le dispositif (36) dirradiation comprend au moins un émetteur (10) de faisceau délectrons ayant une fenêtre (20) de sortie délectrons et au moins un dispositif (56) de capteur pour détection dun premier paramètre de commande de dose du faisceau (16) délectrons. Lémetteur (10) de faisceau délectrons est conçu pour se déplacer devant le dispositif (56) de capteur de telle sorte que le faisceau (16) délectrons émis par la fenêtre (20) de sortie délectrons passe à lintérieur dune zone (58) de détection du dispositif (56) de capteur. Ledit dispositif de capteur comprend plus dun conducteur (64) ayant chacun une surface (68) de conducteur dans la zone (58) de détection du dispositif (56) de capteur, et la surface (68) de conducteur est conçue pour être exposée à des électrons dudit faisceau (16) délectrons. La présente invention concerne également un procédé.
