"Nail Polish Removal Composition and Method" Summary One aspect of the present invention comprises a nail polish removing composition which is essentially free of acetone and ethyl acetate, and is essentially odor free. the composition includes at least one glycerol triester and c2-c5 carboxylic acid, at least one c3-c5 glycol, at least one c4-c6 cyclic carbonate, and optionally at least one dye. Another aspect of the present invention is a method of removing nail polish, comprising providing the nail polish removing composition； dipping an absorbent material into the composition, wherein the absorbent material absorbs the composition； contacting the absorbent material with nail polish long enough to plasticize the nail polish film； and removing the mechanically rubbed plasticized nail enamel film with the absorbent material, wherein the composition comprises one or more phases. 1/1“composição e método para remover esmalte de unhas” resumo um aspecto da presente invenção compreende uma composição removedora de esmalte de unhas que é essencialmente livre de acetona e acetato de etila, e é essencialmente livre de odor. a composição inclui pelo menos um triéster de glicerol e ácido carboxílico c2-c5, pelo menos um glicol c3-c5, pelo menos um carbonato cíclico c4-c6, e, opcionalmente, pelo menos um corante. outro aspecto da presente invenção é um método para remover esmalte de unhas, compreendendo fornecer a composição removedora de esmalte de unhas； imergir um material absorvente na composição, em que o material absorvente absorve a composição； contatar o material absorvente com o esmalte de unha por um tempo suficiente para plastificar o filme de esmalte de unhas； e remover o filme de esmalte de unhas plastificado por fricção mecanicamente com o material absorvente, em que a composição compreende uma ou mais fases. 1/1
